消息稱中芯國際開始測試DUV光刻機，半導體自主化加速推進

紫金財經9月17日消息 據《金融時報》援引知情人士透露，中國半導體產業在自主化道路上取得關鍵進展。國內芯片制造龍頭中芯國際開始測試由上海初創企業宇量昇研發的深紫外（DUV）光刻機。此舉被業界視為打破海外技術封鎖、保障AI芯片供應鏈安全的戰略性一步。



此次測試標志著中國在攻克“卡脖子”技術難題上進入了實質性階段。光刻機是芯片制造中最核心、技術難度最高且價值最昂貴的設備，其地位如同半導體產業的“皇冠”。



長期以來，全球高端光刻機市場由荷蘭阿斯麥（ASML）公司主導，中國芯片企業高度依賴其產品。然而，在美國持續的出口管制壓力下，ASML的高端DUV光刻機對中國市場的供應早已受到嚴格限制，而用于生產最尖端芯片的極紫外（EUV）光刻機則被完全禁售。



因此，實現DUV光刻機的國產化，成為中國發展自主可控半導體產業鏈的“關鍵一戰”。DUV光刻機雖非最頂尖的EUV設備，但仍是制造7nm及以上制程芯片的主力設備，涵蓋了目前絕大多數車用芯片、物聯網芯片以及人工智能（AI）處理器。消息稱，若中芯國際此次驗證成功，將在AI處理器制造環節顯著降低對海外技術的依賴，為中國AI產業的自主發展夯實基礎。



本次國產設備的提供方——宇量昇，是一家備受關注的國資控股高新企業。公司專注于光刻機中的關鍵曝光系統，旨在通過自主研發來穩定國內芯片供應鏈，減少對ASML的依賴。作為國產光刻技術的“挑戰者”，宇量昇獲得了國內多家研究機構與政府的大力支持。



資本市場對此反應迅速且熱烈。“國產替代”的強烈預期已持續推動中國半導體板塊情緒高漲。自今年8月以來，中芯國際、華虹半導體等龍頭股迎來多輪上漲。



盡管前景樂觀，不過分析人士亦指出應保持審慎態度。光刻機研發集全球尖端科技于一身，技術壁壘極高，從試驗室成功驗證到穩定、可靠的大規模量產，中間仍需克服大量工程難題并經歷漫長的時間周期。中芯國際的此次試產，是萬里長征中的重要一步，但最終能否實現規模化商用并提升良率，仍需拭目以待。



無論如何，中芯國際測試國產光刻機的事件本身，已向市場傳遞出一個明確信號：在外部壓力之下，中國半導體產業鏈的自主化進程正在以前所未有的速度和決心向前推進。



長江證券觀點認為，2025年上半年電子行業營收達1.8萬億元，同比增長20%，利潤超900億元，增長30%。半導體行業受AI催化，全球及中國6月銷售額分別增長20%和13.1%，晶圓廠稼動率普遍超90%，中芯國際、華虹產能利用率分別為92.5%和108.3%。國產替代加速，半導體設備材料營收分別增長31%和12%。